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石墨箱式爐

描述:石墨箱式爐HTK GR 可在粗/高真空下使用,也可用于保護(hù)氣氛如氮?dú)?氬氣還有反應(yīng)性氣體如氫氣,一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。 矩形爐體,前開門設(shè)計(jì)使加樣和取樣非常方便。HTK提供6種不同的尺寸供選擇。

  • 產(chǎn)品型號(hào):HTK GR
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-12-09
  • 訪問量:119
產(chǎn)品詳情/ PRODUCT DETAIL

標(biāo)題:石墨箱式爐

產(chǎn)品概述

石墨箱式爐

石墨箱式爐HTK GR 可在粗/高真空下使用,也可用于保護(hù)氣氛如氮?dú)?氬氣還有反應(yīng)性氣體如氫氣,一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。 矩形爐體,前開門設(shè)計(jì)使加樣和取樣非常方便。HTK提供6種不同的尺寸供選擇。最小體積8L,25L通常用于實(shí)驗(yàn)室開發(fā)和研究。80L,220L,400L或600L主要用于生產(chǎn)系統(tǒng)試驗(yàn)或大型生產(chǎn)。 HTK GR保溫材料和加熱元件均為石墨,最高溫度2200°C。根據(jù)應(yīng)用需要可配備石墨反應(yīng)罐,該反應(yīng)罐可以通入氣氛。對(duì)有氣體釋放的應(yīng)用來說,反應(yīng)罐可以保護(hù)加熱元件,延長(zhǎng)爐子的使用壽命。配備反應(yīng)罐后,溫度均勻性也有所改善,小于±10°C。

應(yīng)用實(shí)例:

技術(shù)陶瓷, 燒結(jié), 熱解, 石墨化, 硅化

標(biāo)準(zhǔn)參數(shù):

石墨爐可達(dá)最高溫度

根據(jù)要求提供氫氣分壓操作

粉末樣品的卸樣控制

數(shù)據(jù)記錄,用于質(zhì)量管理

作用原理:

HTK石墨箱式爐內(nèi)部結(jié)構(gòu) 1、支架 2、水冷夾層 3、加熱盒 4、密封槽 5、前門 6、石墨保溫材料 腔體的四面都有加熱元件。加熱元件置于爐子內(nèi)腔的頂部,左右側(cè)和頂部。這種排列有助于提高溫度均勻性。對(duì)于大體積的爐子,腔體的前部和背部也有安裝加熱元件。體積增大則需要更多的加熱元件來保證良好的溫度均勻性。我們的設(shè)計(jì)保證HTK全系列爐子溫度均勻性都能達(dá)到最好。HTK W , HTK MO, HTK GR HTK KE周圍都有水冷夾層,此特點(diǎn)將HTK定義為冷壁爐。冷卻水通過雙重夾層導(dǎo)入。 若有應(yīng)用需要,HTK GR的溫度可達(dá)到3000°C。該溫度范圍需要特殊的爐子設(shè)計(jì)。除了合適的保溫材料厚度,還需要特殊幾何形狀的加熱元件和控溫用高溫計(jì)。高溫計(jì)通過光學(xué)方法直接測(cè)量熱輻射,并沒有插入爐內(nèi),而是通過窗口來探測(cè)。 該原理只有在發(fā)射足夠輻射量時(shí)才能工作,需要的輻射量在400°C以上才能夠發(fā)射,低于400°C采用移動(dòng)熱電偶來控制溫度。 因?yàn)樘颊羝麎毫Φ脑黾樱?/span>3000°C僅適用于惰性氣體環(huán)境。碳蒸汽壓力會(huì)導(dǎo)致碳被釋放到大氣中,對(duì)碳敏感的樣品則需要使用金屬爐。

技術(shù)參數(shù):

HTK 400 GR/22-1G

保溫材料石墨
體積(L)400
真空的最高溫度(°C)2200


尺寸: 外部 高 x 寬 x 深 (mm)2500 x 2300 x 2600
重量(kg)3800
可用空間
H x W x D, 不含工藝內(nèi)腔的可用空間 [mm]650 x 700 x 900
H x W x D, 含工藝內(nèi)腔的可用空間 [mm]630 x 680 x 900
熱性能參數(shù)
氣氛時(shí)的最高溫度(°C)2200
ΔT, 從500-1500攝氏度 (根據(jù)DIN 17052)± 10
最大升溫速率(k/min)10
冷卻時(shí)間(H)12
電氣參數(shù)
功率 (kW)250
電壓(V)400 (3P)
電流(a)3 x 370
保險(xiǎn)絲(A)3 x 500
真空(選項(xiàng))
泄漏率(清潔、冷態(tài)、空爐膛)(mbar l/s)5x10-3
真空度,取決于真空泵粗或細(xì)真空
冷卻水需求
流量 (l/min)200
冷卻水最高溫度(°C)23
工藝氣氛
氮?dú)饣驓鍤猓渌麣怏w請(qǐng)聯(lián)系廠家(L/H)1000-10000
控制器根據(jù)需求


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