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描述:石墨箱式爐HTK GR 可在粗/高真空下使用,也可用于保護(hù)氣氛如氮?dú)?氬氣還有反應(yīng)性氣體如氫氣,一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。 矩形爐體,前開門設(shè)計(jì)使加樣和取樣非常方便。HTK提供6種不同的尺寸供選擇。
標(biāo)題:石墨箱式爐
產(chǎn)品概述
石墨箱式爐HTK GR 可在粗/高真空下使用,也可用于保護(hù)氣氛如氮?dú)?氬氣還有反應(yīng)性氣體如氫氣,一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。 矩形爐體,前開門設(shè)計(jì)使加樣和取樣非常方便。HTK提供6種不同的尺寸供選擇。最小體積8L,25L通常用于實(shí)驗(yàn)室開發(fā)和研究。80L,220L,400L或600L主要用于生產(chǎn)系統(tǒng)試驗(yàn)或大型生產(chǎn)。 HTK GR保溫材料和加熱元件均為石墨,最高溫度2200°C。根據(jù)應(yīng)用需要可配備石墨反應(yīng)罐,該反應(yīng)罐可以通入氣氛。對(duì)有氣體釋放的應(yīng)用來說,反應(yīng)罐可以保護(hù)加熱元件,延長(zhǎng)爐子的使用壽命。配備反應(yīng)罐后,溫度均勻性也有所改善,小于±10°C。
應(yīng)用實(shí)例:
技術(shù)陶瓷, 燒結(jié), 熱解, 石墨化, 硅化
標(biāo)準(zhǔn)參數(shù):
▏ 石墨爐可達(dá)最高溫度
▏ 根據(jù)要求提供氫氣分壓操作
▏ 粉末樣品的卸樣控制
▏ 數(shù)據(jù)記錄,用于質(zhì)量管理
作用原理:
HTK石墨箱式爐內(nèi)部結(jié)構(gòu) 1、支架 2、水冷夾層 3、加熱盒 4、密封槽 5、前門 6、石墨保溫材料 腔體的四面都有加熱元件。加熱元件置于爐子內(nèi)腔的頂部,左右側(cè)和頂部。這種排列有助于提高溫度均勻性。對(duì)于大體積的爐子,腔體的前部和背部也有安裝加熱元件。體積增大則需要更多的加熱元件來保證良好的溫度均勻性。我們的設(shè)計(jì)保證HTK全系列爐子溫度均勻性都能達(dá)到最好。HTK W , HTK MO, HTK GR 和HTK KE周圍都有水冷夾層,此特點(diǎn)將HTK定義為冷壁爐。冷卻水通過雙重夾層導(dǎo)入。 若有應(yīng)用需要,HTK GR的溫度可達(dá)到3000°C。該溫度范圍需要特殊的爐子設(shè)計(jì)。除了合適的保溫材料厚度,還需要特殊幾何形狀的加熱元件和控溫用高溫計(jì)。高溫計(jì)通過光學(xué)方法直接測(cè)量熱輻射,并沒有插入爐內(nèi),而是通過窗口來探測(cè)。 該原理只有在發(fā)射足夠輻射量時(shí)才能工作,需要的輻射量在400°C以上才能夠發(fā)射,低于400°C采用移動(dòng)熱電偶來控制溫度。 因?yàn)樘颊羝麎毫Φ脑黾樱?/span>3000°C僅適用于惰性氣體環(huán)境。碳蒸汽壓力會(huì)導(dǎo)致碳被釋放到大氣中,對(duì)碳敏感的樣品則需要使用金屬爐。
技術(shù)參數(shù):
HTK 400 GR/22-1G
保溫材料 | 石墨 |
體積(L) | 400 |
真空的最高溫度(°C) | 2200 |
尺寸: 外部 高 x 寬 x 深 (mm) | 2500 x 2300 x 2600 |
重量(kg) | 3800 |
可用空間 | |
H x W x D, 不含工藝內(nèi)腔的可用空間 [mm] | 650 x 700 x 900 |
H x W x D, 含工藝內(nèi)腔的可用空間 [mm] | 630 x 680 x 900 |
熱性能參數(shù) | |
氣氛時(shí)的最高溫度(°C) | 2200 |
ΔT, 從500-1500攝氏度 (根據(jù)DIN 17052) | ± 10 |
最大升溫速率(k/min) | 10 |
冷卻時(shí)間(H) | 12 |
電氣參數(shù) | |
功率 (kW) | 250 |
電壓(V) | 400 (3P) |
電流(a) | 3 x 370 |
保險(xiǎn)絲(A) | 3 x 500 |
真空(選項(xiàng)) | |
泄漏率(清潔、冷態(tài)、空爐膛)(mbar l/s) | 5x10-3 |
真空度,取決于真空泵 | 粗或細(xì)真空 |
冷卻水需求 | |
流量 (l/min) | 200 |
冷卻水最高溫度(°C) | 23 |
工藝氣氛 | |
氮?dú)饣驓鍤猓渌麣怏w請(qǐng)聯(lián)系廠家(L/H) | 1000-10000 |
控制器 | 根據(jù)需求 |
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